絲網(wǎng)除沫器兩種情形：一種是（O01）面衍射峰強(qiáng)度的變化，在磨礦開(kāi)端階段該衍射方向的強(qiáng)度增大，到達(dá)大值后疾速降落，然后逐步趨于平緩；另一種是除了（001）衍射方向以外的衍射峰強(qiáng)度變化在整個(gè)磨礦過(guò)程中呈降落趨向。這種強(qiáng)度變化反映出高嶺石晶體構(gòu)造的變化。

　　磨礦初階段，高嶺石沿（001）面發(fā)作解理，增加了（OOl）方向的衍射概率，從而使（001）面衍射峰強(qiáng)度增大。但是，隨著磨礦的停止，解理作用逐步減緩直至中止，晶體構(gòu)造逐漸無(wú)序化，從而使衍射峰強(qiáng)度到達(dá)大值后疾速降落。和（001）衍射方向不同，高嶺石其他結(jié)晶方向是晶體斷裂方向。

　　有序排列的晶面隨磨礦過(guò)程不時(shí)減少，有序水平降落，從而在整個(gè)磨礦過(guò)程中，衍射峰強(qiáng)度不時(shí)降落，在振動(dòng)磨中研磨后高嶺土晶粒尺寸（D,）、無(wú)定形（RAM）及差熱（DTA）曲線(xiàn)的變化。這些DTA曲線(xiàn)的變化反映了羥基鍵能的變化。在研磨一定時(shí)間后高嶺土樣品的DTA曲線(xiàn)與"耐火黏土"相同。

　　長(zhǎng)時(shí)間研磨后呈現(xiàn)以原子團(tuán)之間鍵合斷裂、脫除羥基，而且在卸去載荷后不再恢復(fù)為特征的無(wú)定形化，在滑石和葉蠟；石的研磨中，當(dāng)磨至Mgz+成為可交流離子后，開(kāi)端呈現(xiàn)無(wú)定形化。圖3-5所示為在振動(dòng)磨中研磨一定時(shí)間后，葉蠟石的DTA曲線(xiàn)。結(jié)果標(biāo)明，研磨32h后已局部產(chǎn)生無(wú)定形化。